光刻機的作用

1、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。

2、生產集成電路的簡要步驟：利用模版去除晶圓表面的保護膜。將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。