光刻機的簡介

1、光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。

2、光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫着線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到硅片上。然後使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。