Euv的精選

euv光刻機原理是接近或接觸式光刻通過無限靠近，複製掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，通過運動工件台或鏡頭掃描實現任意圖形加工。投影式光刻因其高效率、無損傷的優點，是集成電路主流光刻技術。光刻機（MaskA...

光刻機是芯片製造的核心設備之一。在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫着線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到硅片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在...